|
方华膜，上面没有任何镀层物质，可溶于多种有机溶剂，膜韧性强，通透率高，但是导电性差，在电子束照射下，会因高温或电荷积累，引起局部受热碳化，产生局部黑斑，样品漂移，甚至石墨破裂，损伤样品，建议在100KV电镜上使用。用户可做特殊处理或直接用于超薄切片样品。 膜厚度： 10-15nm
注：G50-Cu/Ni表示国产50目的铜网或镍网。 关联产品：TechCut 4x 慢速锯、TECHCUT 5X 精密高速锯、POWERCUT 10X 砂轮机、TECHPRESS 3X 镶嵌机、MultiPrep 精密磨样系统、METPREP 1X 手动磨样机、M-PREP 5X 手动磨样机、Quantifoil、碳支持膜、微栅、氮化硅窗格、FIB铜网、打孔机（冲样器）、金刚石研磨片、M-BOND 610、PiBond、导电胶带、银胶、812树脂。
|
电话：
吴凯 15901402650 李佩霞 15901063582 申亮亮 13436505059 齐浩 15910607655
座机：010-62570239
传真：010-62570239
地址：北京市昌平区回龙观东大街336号院4号楼3层312-1
北京市中兴百瑞科技有限公司
Copyright 2014-2025,www.xxxxx.com,All rights reserved
