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方华膜
收藏
方华膜,上面没有任何镀层物质,可溶于多种有机溶剂,膜韧性强,通透率高,但是导电性差,在电子束照射下,会因高温或电荷积累,引起局部受热碳化,产生局部黑斑,样品漂移,甚至石墨破裂,损伤样品,建议在100KV电镜上使用。用户可做特殊处理或直接用于超薄切片样品。 膜厚度: 10-15nm
注:G50-Cu/Ni表示国产50目的铜网或镍网。 |
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方华膜,上面没有任何镀层物质,可溶于多种有机溶剂,膜韧性强,通透率高,但是导电性差,在电子束照射下,会因高温或电荷积累,引起局部受热碳化,产生局部黑斑,样品漂移,甚至石墨破裂,损伤样品,建议在100KV电镜上使用。用户可做特殊处理或直接用于超薄切片样品。 膜厚度: 10-15nm
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